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フレリアブログ

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#ASML

  • 細い平行線の模様を描いた半導体ウェハに光が集まるAI生成の概念イラスト。Hyper-NA装置の実機や光学設計の再現ではない。

    その他/解説

    Hyper-NA EUV:解像度を高めるほど厳しくなる量産条件

    Hyper-NA EUVとHigh-NAの違いを整理。工程を減らす構想と、寸法・焦点深度、材料・加工や量産判断の課題を、実証と区別して解説します。

    10.118分Xで共有Threadsで共有

  • Intel 18Aプロセス向けにASML製High-NA EUV露光装置でシリコンウエハーを処理するクリーンルームを描いた、生成AIによるイメージイラスト。

    解説

    High-NA EUVが量産出荷へ Intel 18A特定層の採用と各社の動向

    High-NA EUV露光技術が研究実験から実製造ラインへ移行しました。Intelが特定層で先行出荷を達成する一方、TSMCなど他ファウンドリは異なる導入戦略をとっています。微細化の意義や技術的課題、サプライチェーンへの影響を専門記者が解説します。

    09.1920分Xで共有Threadsで共有

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